Patterning of material layers in submicron region /
Tandon, U. S., 1952-,
Patterning of material layers in submicron region / U.S. Tandon, W.S. Khokle. - xii, 183 páginas : Ilustraciones (algunas a color) ;
Incluye referencias bibliograficas e indices.
0470220635 (J. Wiley) 8122405614 (Wiley Eastern)
Circuitos integrados--Máscaras
Litografia ionica del haz
Litografia electronica del haz
Litografía por rayos X
TK7872.M3 / T35 1993
621.3815/31
Patterning of material layers in submicron region / U.S. Tandon, W.S. Khokle. - xii, 183 páginas : Ilustraciones (algunas a color) ;
Incluye referencias bibliograficas e indices.
0470220635 (J. Wiley) 8122405614 (Wiley Eastern)
Circuitos integrados--Máscaras
Litografia ionica del haz
Litografia electronica del haz
Litografía por rayos X
TK7872.M3 / T35 1993
621.3815/31