Detalles MARC
| 000 -LIDER |
|---|
| campo de control de longitud fija |
01311nam a2200349 a 4500 |
| 001 - NUMERO DE CONTROL |
|---|
| campo de control |
000001917 |
| 005 - FECHA Y HORA DE LA ULTIMA TRANSACCION |
|---|
| campo de control |
20231201102436.0 |
| 035 ## - NUMERO DE CONTROL DEL SISTEMA |
|---|
| Número de control del sistema |
PIM01000001917 |
| 040 ## - FUENTE DE CATALOGACION |
|---|
| Agencia de catalogación original |
Ingles |
| 008 - ELEMENTOS DE LONGITUD FIJA—INFORMACION GENERAL |
|---|
| campo de control de longitud fija |
231130s2011 mx a|||||||||||||||||||spa d |
| 100 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE PERSONAL |
|---|
| Nombre personal |
Vigil-Galan, O. |
| 100 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE PERSONAL |
|---|
| Nombre personal |
Cruz-Orea, A. |
| 100 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE PERSONAL |
|---|
| Nombre personal |
Mejia-Garcia, C. |
| 100 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE PERSONAL |
|---|
| Nombre personal |
Fandiño, J. |
| 100 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE PERSONAL |
|---|
| Nombre personal |
Garcia-Sanchez, M.F. |
| 110 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE CORPORATIVO |
|---|
| Nombre corporativo o de jurisdicción como elemento de entrada |
Instituto Politecnico Nacional. Escuela Superior de Fisica y Matematicas |
| 110 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE CORPORATIVO |
|---|
| Nombre corporativo o de jurisdicción como elemento de entrada |
Instituto Politecnico Nacional. Centro de Investigacion y de Estudios Avanzados |
| 110 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE CORPORATIVO |
|---|
| Nombre corporativo o de jurisdicción como elemento de entrada |
Universidad Autonoma de la Ciudad de Mexico |
| 110 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE CORPORATIVO |
|---|
| Nombre corporativo o de jurisdicción como elemento de entrada |
Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales |
| 222 #0 - TITULO CLAVE |
|---|
| Título clave |
Thin Solid Films |
| 245 #0 - MENCION DEL TITULO |
|---|
| Título |
Passivation properties of nitric/phosphoric etching on CdTe films: influence of the etching time and nitric acid concentration. |
| 260 ## - PUBLICACION, DISTRIBUCION, ETC. (PIE DE IMPRENTA) |
|---|
| Nombre del editor, distribuidor, etc. |
2011. |
| 300 ## - DESCRIPCION FISICA |
|---|
| Extensión |
Vol. 519, No. 21, pp. 7164-7167. |
| 590 ## - NOTA LOCAL (RLIN) |
|---|
| Nota local |
Articulo |
| 650 ## - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
|---|
| Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Passivation |
| 650 ## - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
|---|
| Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Photoacoustic |
| 650 ## - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
|---|
| Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Photoluminescence |
| 650 ## - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
|---|
| Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
CdTe |
| 650 ## - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
|---|
| Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Thin film |
| 650 ## - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
|---|
| Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Surface recombination velocity |
| 856 ## - LOCALIZACION Y ACCESO ELECTRONICOS |
|---|
| Identificador Uniforme del Recurso (“URI”) |
https://iim-b.bibliotecas.unam.mx:81/opac-tmpl/bootstrap/images/documentos/articulos/2011-82.pdf |
| Texto del vínculo |
Acceso texto completo |
