Detalles MARC
000 -LIDER |
campo de control de longitud fija |
01168nam a2200325 a 4500 |
005 - FECHA Y HORA DE LA ULTIMA TRANSACCION |
campo de control |
20231201102712.0 |
035 ## - NUMERO DE CONTROL DEL SISTEMA |
Número de control del sistema |
PIM01000003012 |
040 ## - FUENTE DE CATALOGACION |
Agencia de catalogación original |
Ingles |
008 - ELEMENTOS DE LONGITUD FIJA—INFORMACION GENERAL |
campo de control de longitud fija |
231130s2017 mx a|||||||||||||||||||spa d |
100 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE PERSONAL |
Nombre personal |
Alvarez-Macias, C. |
100 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE PERSONAL |
Nombre personal |
Escobar-Carrasquilla, J. D. |
100 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE PERSONAL |
Nombre personal |
Dutt, A. |
100 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE PERSONAL |
Nombre personal |
Mon-Perez, E. |
100 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE PERSONAL |
Nombre personal |
Gonzalez, L. |
100 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE PERSONAL |
Nombre personal |
Santana, G. |
110 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE CORPORATIVO |
Nombre corporativo o de jurisdicción como elemento de entrada |
Instituto Tecnologico de la Laguna. Division de Estudios de Posgrado e Investigacion |
110 ## - ASIENTO PRINCIPAL--NOMBRE CORPORATIVO |
Nombre corporativo o de jurisdicción como elemento de entrada |
Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales |
222 ## - TITULO CLAVE |
Título clave |
Nano: Brief Reports and Reviews |
245 ## - MENCION DEL TITULO |
Título |
Development of optimal nanocrystalline absorption layer for thin film silicon solar cell applications |
260 ## - PUBLICACION, DISTRIBUCION, ETC. (PIE DE IMPRENTA) |
Nombre del editor, distribuidor, etc. |
2017 |
300 ## - DESCRIPCION FISICA |
Extensión |
Vol. 12, No. 11, Art. 1750134 |
590 ## - NOTA LOCAL (RLIN) |
Nota local |
Articulo |
650 ## - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Pm-Si: H |
650 ## - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Chemical vapour deposition |
650 ## - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Silicon thin film |
650 ## - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Band gap |
650 ## - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Absorption layer |
650 ## - ASIENTO SECUNDARIO DE MATERIA - TERMINO TEMATICO |
Término temático o nombre geográfico como elemento de entrada |
Photosensitivity |
856 ## - LOCALIZACION Y ACCESO ELECTRONICOS |
Identificador Uniforme del Recurso (“URI”) |
https://iim-b.bibliotecas.unam.mx:81/opac-tmpl/bootstrap/images/documentos/articulos/2017-146.pdf |
Texto del vínculo |
Acceso texto completo |