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Plasma etching : fundamentals and applications / M. Sugawara ; with contributions from Barry L. Stonsfield ...[y otros.]
Tipo de material:
TextoIdioma: ENG Series Series on semiconductor science and technology ; 7Editor: New York : Oxford University Press, 1998Descripción: viii, 347 páginas : hojas (algunas a color)Tipo de contenido: texto Tipo de medio: sin medio Tipo de portador: volumenISBN: 019856287XTema(s): Semiconductores -- Ataque quimico | Ataque por plasmaClasificación CDD: 621.3815/31 Clasificación LoC:TK7871.85 | S835Otra clasificación: General
| Tipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Clasificación | Copia número | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras | Reserva de ítems |
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Libros
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Libros Libros | General | TK7871.85/S835 (Navegar estantería(Abre debajo)) | 1 | Disponible | 14597 |
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Incluye referencias bibliograficas e indice
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