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Ion beam analysis of SiC/sub x/ thin films using a deuterium beam.

Título de la Revista: Surface and Coatings TechnologyPor: Andrade, E | Mahmood, A | Muhl, S | Zavala, E.P | Pineda, J.C | Huerta, L | Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Fisica | Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en MaterialesTipo de material: TextoTextoIdioma: SPA Detalles de publicación: 2002. Descripción: Vol. 153, pp. 119-124Tema(s): Silicon carbide | Thin film RF | RBS | NRA | Characterization filmsRecursos en línea: Acceso texto completo
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