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Low temperature-low hydrogen content silicon nitrides thin films deposited by PECVD using dichlorosilane and ammonia mixtures.

Título de la Revista: Journal of Non-Crystalline SolidsPor: Santana, G | Fandino, J | Ortiz, A | Alonso, J.C | Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en MaterialesTipo de material: TextoTextoIdioma: SPA Detalles de publicación: 2005. Descripción: Vol. 351, no. 10-11, pp. 922-928Recursos en línea: Acceso texto completo
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