Role of hydrogen on the deposition and properties of fluorinated silicon-nitride films prepared by inductively coupled plasma enhanced chemical vapor deposition using SiF4/N-2/H-2 mixtures.
Título de la Revista: Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surface, and FilmsTipo de material:
TextoIdioma: SPA Detalles de publicación: 2005. Descripción: Vol. 23, no. 2, pp. 248-255Recursos en línea: Acceso texto completo
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