Growth of silicon nanoclusters on different substrates by plasma enhanced chemical vapor deposition.
Título de la Revista: Journal of Nanoscience and NanotechnologyTipo de material: TextoDetalles de publicación: 2006. Descripción: Vol. 6, no. 12, pp. 3752-3755Tema(s): Silicon nanoclusters | Growth | Substrates | PECVDRecursos en línea: Acceso texto completoTipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Clasificación | Copia número | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras | Reserva de ítems |
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