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The influence of the magnetic field configuration on plasma parameters and microstructure of niobium nitride films.

Título de la Revista: Surface and Coatings TechnologyPor: Rodil, S.E | Olaya, J.J | Muhl, S | Bhushan, B | Wei, G | Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de investigaciones en materiales | Universidad Nacional de Colombia. Facultad de Minas. Escuela de Ingeniería de Materiales | Nanotribology Laboratory for Information Storage and MEMS/NEMSTipo de material: TextoTextoDetalles de publicación: 2007. Descripción: Vol. 201, no. 13, pp. 6117-6121Tema(s): Unbalanced magnetron sputtering | Niobium nitride | Plasma diagnostics | NanoindentationRecursos en línea: Acceso texto completo
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