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Influence of the ion-atom flux ratio on the mechanical properties of chromium nitride thin films.

Título de la Revista: VacuumPor: Olaya, J.J | Wei, G | Rodil, S.E | Muhl, S | Bhushan, B | Universidad Nacional de Colombia. Departamento de Ingenierıa Mecanica y Mecatronica. Unidad de Materiales | Nanotribology Laboratory for Information Storage and MEMS/NEMS | Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en MaterialesTipo de material: TextoTextoDetalles de publicación: 2007. Descripción: Vol. 81, no. 5, pp. 610-618Tema(s): Unbalanced magnetron sputtering | Nanoindentation | Chromium nitride | MicrostructireRecursos en línea: Acceso texto completo
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