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Passivation properties of nitric/phosphoric etching on CdTe films: influence of the etching time and nitric acid concentration.

Título de la Revista: Thin Solid FilmsPor: Vigil-Galan, O | Cruz-Orea, A | Mejia-Garcia, C | Fandiño, J | Garcia-Sanchez, M.F | Instituto Politecnico Nacional. Escuela Superior de Fisica y Matematicas | Instituto Politecnico Nacional. Centro de Investigacion y de Estudios Avanzados | Universidad Autonoma de la Ciudad de Mexico | Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en MaterialesTipo de material: TextoTextoDetalles de publicación: 2011. Descripción: Vol. 519, No. 21, pp. 7164-7167Tema(s): Passivation | Photoacoustic | Photoluminescence | CdTe | Thin film | Surface recombination velocityRecursos en línea: Acceso texto completo
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