Efecto de los parametros de depositos de silicio polimorfo por tecnica PECVD sobre las propiedades quimicas nano-estructurales optoelectronicas y de foto-degradacion para su implementacion en la fabricacion de celdas solares
Título de la Revista: Revista Mexicana de Ingenieria QuimicaTipo de material:
TextoDetalles de publicación: 2017 Descripción: Vol. 16, No. 3, pp. 991-1001Tema(s): Polymorphous silicon | Dichlorosilane | Photoconductivity | Solar cellRecursos en línea: Acceso texto completo
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