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Applications of plasma processes to vlsi technology / Ed. by takuo sugano ; translated by hyo-gun kim

Tipo de material: Texto

TextoEditor: New York : J. Wiley, c1985Descripción: 394 páginasTipo de contenido: texto Tipo de medio: sin medio Tipo de portador: volumenISBN: 0-471-86960-0Tema(s): Plasma -- Grabado | Semiconductores -- Grabado | Galvanoplastia al vapor | Circuitos integrados en muy gran escalaClasificación LoC:TK7871.85 | H3313Otra clasificación: General

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Traduccion de: handotai purazama purosesugijutsu

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