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Photon, beam and plasma assited processing / Ed. by i. w. boyd and e. f. krimmel
Tipo de material:
TextoEditor: North-holland : Elsevier Science, 1989Descripción: 703 páginasTipo de contenido: texto Tipo de medio: sin medio Tipo de portador: volumenISBN: 0444873015Tema(s): Química de superficies -- Congresos | Ataque por plasma -- Congresos | Láseres -- Aplicaciones industriales -- Congresos | Haces fotónicos -- Aplicaciones industriales -- Congresos | Materiales -- Efectos de la radiación -- CongresosClasificación LoC:TA418.6 | P46Otra clasificación: General
| Tipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Clasificación | Copia número | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras | Reserva de ítems |
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Libros
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Libros Libros | General | TA418.6/P46 (Navegar estantería(Abre debajo)) | 1 | Disponible | 5449 |
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"proceedings of symposium b on photon, beam and plasma assited processing fundamentals and device technology of the 1988 e-mrs spring conference strasbourg, france, 31 may-2 june 1988"
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