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Characterization of plasma-enhanced cvd processes : Symposium held november 27-28, 1989, boston, massachusetts, usa / Ed. Gerald lucovsky, dale e. ibbotson, dennis w. hess

TextoSeries Materials research society symposium proceedings ; 165Editor: Pittsburgh, pennsylvania : Materials research society, c1990Descripción: 250 páginasTipo de contenido: texto Tipo de medio: sin medio Tipo de portador: volumenISBN: 1558990534Tema(s): Deposición química de vapor asistida por plasma -- Congresos | Circuitos integrados -- Diseño y construcción -- CongresosClasificación LoC:TS695.15 | C43Otra clasificación: Serie

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Libros	Libros Libros	Series	TS695.15/C43 VOL. 165 (Navegar estantería(Abre debajo))	1	Disponible		5935

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Previo	TS513/K37 Fabrication methods for precision optics /	TS653.5/M47 1993 Vol. 2.05 Metallic and inorganic coatings; metal powders, sintered p/	TS653/R43 Vol. 604-605 Recent developments in the processing and applications of structural metals and alloys : selected, peer reviewed papers from the International Conference on Recent Developments in the processing and applications of structural metals and alloys, conference organized to celebrate the 70th birthday of Prof. Enrico Evangelista, Dept. of Mechanical Engineering, Marche Polytechnic University, Italy, COMO (Italy) from 22nd to 25th, June 2008 /	TS695.15/C43 VOL. 165 Characterization of plasma-enhanced cvd processes : Symposium held november 27-28, 1989, boston, massachusetts, usa /	TS695.9/C44/1994/Vol.363 Chemical vapor deposition of refractory metals and ceramics III : symposium held november 28-30, 1994, Boston Massachusetts, U.S.A. /	TS695/R43 Vol. 109 Reactive sputter deposition /	TT211/W45 1993 Vol. 6 Welding, brazing, and soldering /	Siguiente

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