Imagen de Amazon.com

Chemical vapor deposition for microelectronics : Principles, technology, and applications / By Arthur sherman

Por: Sherman, Arthur [autor]Tipo de material: Texto

TextoSeries Materials science and process technology seriesEditor: Park ridge, new jersey : Noyes, c1987Descripción: 215 páginasTipo de contenido: texto Tipo de medio: sin medio Tipo de portador: volumenISBN: 0815511361Tema(s): Deposito de materiales al vacio | Circuitos integrados -- Diseño y construcciónClasificación LoC:TS695 | S44Otra clasificación: General

Etiquetas de esta biblioteca: No hay etiquetas de esta biblioteca para este título. Ingresar para agregar etiquetas.

Existencias
Tipo de ítem	Biblioteca actual	Colección	Clasificación	Copia número	Estado	Fecha de vencimiento	Código de barras	Reserva de ítems
Libros	Libros Libros	General	TS695/S44 (Navegar estantería(Abre debajo))	1	Disponible		16622

Total de reservas: 0

Previo								Siguiente
Previo	TS695/C83 CVD of nonmetals /	TS695/C84 CVD polymers : fabrication of organic surfaces and devices /	TS695/G35 Chemical vapor deposited materials	TS695/S44 Chemical vapor deposition for microelectronics : Principles, technology, and applications /	TS718/D47 Designing interfaces for technological applications : Ceramic-ceramic, ceramic-metal joining /	TS718/M47 Metal-ceramic interfaces : Proceedings of an international workshop, coronado, california, usa, 16-18 january 1989 /	TS718/S34 Ceramic joining /	Siguiente

No hay comentarios en este titulo.

para colocar un comentario.

Universidad Nacional Autónoma de MéxicoInstituto de Investigaciones en Materiales Catálogo de la Biblioteca