Handbook of plasma procesing technology : Fundamentals, etching deposition, and surface interactions / Ed. by Stephen m. rossnagel, jerome j. cuomo, William d. westwood
Tipo de material: TextoEditor: Park ridge, new jersey : Noyes, c1990Descripción: 553 páginasTipo de contenido: texto Tipo de medio: sin medio Tipo de portador: volumenISBN: 0815512201Tema(s): Ingeniería del plasma | Semiconductores -- Ataque quimico | Ataque por plasmaClasificación LoC:TA2020 | H37Otra clasificación: ConsultaTipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Clasificación | Copia número | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras | Reserva de ítems |
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