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Ion implantation : basics to device fabrication / by Emanuele Rimini
Tipo de material:
TextoIdioma: ENG Series Kluwer international series in engineering and computer science ; SECS 293. | Klumer international series in engineering and computer science. . Electronic materials, science and technologyEditor: Boston : Kluwer Academic, c1995Descripción: xii, 393 páginas : ilustracionesTipo de contenido: texto Tipo de medio: sin medio Tipo de portador: volumenISBN: 0792395204 (papel libre de acido)Tema(s): Implantación de iones | Dopado de semiconductores | Semiconductores -- Diseño y construcciónClasificación CDD: 621.3815/2 Clasificación LoC:QC702.7I55 | R55 1995Otra clasificación: General
| Tipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Clasificación | Copia número | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras | Reserva de ítems |
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Libros
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Libros Libros | General | QC702.7.I55/R55 1995 (Navegar estantería(Abre debajo)) | 1 | Disponible | 12294 |
Total de reservas: 0
Navegando Libros Estantes, Ubicación: Libros, Código de colección: General Cerrar el navegador de estanterías (Oculta el navegador de estanterías)
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| QC702.7.B65/B9713 High-power ion beams / | QC702.7.B65/I645 Introduction to focused ion beams : instrumentation, theory, techniques, and practice / | QC702.7.B65/I65 Ion beams for materials analysis / | QC702.7.I55/R55 1995 Ion implantation basics to device fabrication | QC702.7.I55/T68 Optical effects of ion implantation | QC702.7.N4/T44 Theoretical prospect of negative ions / | QC702.7.P48/H54 High resolution laser photoionization and photoelectron studies / |
Includes bibliographical references (p. [359]-378) and index.
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