TY  - BOOK
AU  - Tandon,U.S.
AU  - Khokle,W.S.
TI  - Patterning of material layers in submicron region
SN  - 0470220635 (J. Wiley)
AV  - TK7872.M3 T35 1993
U1  - 621.3815/31 20
PY  - 1993///
CY  - New York
PB  - J. Wiley
KW  - Circuitos integrados
KW  - Máscaras
KW  - Litografia ionica del haz
KW  - Litografia electronica del haz
KW  - Litografía por rayos X
N1  - Incluye referencias bibliograficas e indices
ER  -