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		Determination of the size distribution of metallic nanoparticles by optical extinction spectroscopy. Título de la Revista: Applied Optics por Pena, O \| Rodriguez-Fernandez, L \| Rodriguez-Iglesias, V \| Kellermann, G \| Crespo-Sosa, A \| Cheang-Wong, J.C \| Silva-Pereyra, H.G \| Arenas-Alatorre, J \| Oliver, A \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Fisica \| Laboratorio Nacional de Luz Sincrotron. Tipo de material: Texto Detalles de publicación: 2009. Acceso en línea: Acceso texto completo Disponibilidad: No disponible para préstamo a domicilio:Artículos: Préstamo en sala (1). Agregar al carrito (remover)
		Fluorinated-chlorinated SiO/sub 2/ films prepared at low temperature by remote plasma-enhanced chemical-vapor deposition using mixtures of SiF/sub 4/ and SiCl/sub 4/. Título de la Revista: Journal of Vacuum Science and Technology A-Vacuum, Surface, and Films por Alonso, J. C \| Pichardo, E \| Rodriguez-Fernandez, L \| Cheang-Wong, J. C \| Ortiz, A \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Fisica. Tipo de material: Texto Idioma: SPA Detalles de publicación: 2001. Acceso en línea: Acceso texto completo Disponibilidad: No disponible para préstamo a domicilio:Artículos: Préstamo en sala (1). Agregar al carrito (remover)
		Fluorine content of SiOF films as determined by IR spectroscopy and resonant nuclear reaction analysis. Título de la Revista: Journal of Vacuum Science & Technology A por Alonso, J. C \| Diaz-Bucio, M \| Ortiz, A \| Benami, A \| Cheang-Wong, J. C \| Rodriguez-Fernandez, L \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Fisica. Tipo de material: Texto Detalles de publicación: 2007. Acceso en línea: Acceso texto completo Disponibilidad: No disponible para préstamo a domicilio:Artículos: Préstamo en sala (1). Agregar al carrito (remover)
		Role of hydrogen on the deposition and properties of fluorinated silicon-nitride films prepared by inductively coupled plasma enhanced chemical vapor deposition using SiF4/N-2/H-2 mixtures. Título de la Revista: Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surface, and Films por Fandino, J \| Santana, G \| Rodriguez-Fernandez, L \| Cheang-Wong, J.C \| Ortiz, A \| Alonso, J.C \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Fisica. Tipo de material: Texto Idioma: SPA Detalles de publicación: 2005. Acceso en línea: Acceso texto completo Disponibilidad: No disponible para préstamo a domicilio:Artículos: Préstamo en sala (1). Agregar al carrito (remover)

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