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		On the contributions of the electronic polarizability and porosity to the reduction of the refractive index of SiOF films deposited by remote plasma-enhanced chemical vapor deposition. Título de la Revista: Thin Solid Films por Alonso, J. C \| Diaz-Bucio, X. M \| Pichardo, E \| Rodriguez-Fernandez, L \| Ortiz, A \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Fisica. Tipo de material: Texto Idioma: SPA Detalles de publicación: 2005. Acceso en línea: Acceso texto completo Disponibilidad: No disponible para préstamo a domicilio:Artículos: Préstamo en sala (1). Agregar al carrito (remover)
		Visible electroluminescence from silicon nanoclusters embedded in chlorinated silicon nitride thin films. Título de la Revista: Thin Solid Films por Alonso, J. C \| Pulgarin, F. A \| Monroy, B. M \| Benami, A \| Bizarro, M \| Ortiz, A \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales. Tipo de material: Texto Detalles de publicación: 2010. Acceso en línea: Acceso texto completo Disponibilidad: No disponible para préstamo a domicilio:Artículos: Préstamo en sala (1). Agregar al carrito (remover)

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