Patterning of material layers in submicron region / U.S. Tandon, W.S. Khokle.
Tipo de material: TextoIdioma: ENG Editor: New York : J. Wiley, 1993Descripción: xii, 183 páginas : Ilustraciones (algunas a color)Tipo de contenido: texto Tipo de medio: sin medio Tipo de portador: volumenISBN: 0470220635 (J. Wiley); 8122405614 (Wiley Eastern)Tema(s): Circuitos integrados -- Máscaras | Litografia ionica del haz | Litografia electronica del haz | Litografía por rayos XClasificación CDD: 621.3815/31 Clasificación LoC:TK7872.M3 | T35 1993Otra clasificación: GeneralTipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Clasificación | Copia número | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras | Reserva de ítems |
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Libros | Libros Libros | General | TK7872.M3/T35 1993 (Navegar estantería(Abre debajo)) | 1 | Disponible | 11004 |
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