Efecto del V y el Si sobre la microestructura de depositos realizados con electrodos tubulares revestidos de alto contenido de Mn (Hadfield)
Título de la Revista: Soldagem and InspecaoTipo de material: TextoDetalles de publicación: 2017 Descripción: Vol. 22, No. 3, pp. 249-257Tema(s): Hadfield | Microestructure | Surfacing | Vanadium | SiliconRecursos en línea: Acceso texto completoTipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Clasificación | Copia número | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras | Reserva de ítems |
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