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		Characterization of the AI203 films deposited by ultrasonic spray pyrolysis and atomic layer deposition methods for passivation of 4H-SiC devices. Título de la Revista: Microelectronics and Reliability por Wolborski, M \| Bakowski, M \| Ortiz, A \| Pore, V \| Schoner, A \| Ritala, M \| Leskela, M \| Hallen, A \| Royal Institute of Technology. Department of Microelectronics and Information Technology (Sweden) \| ACREO (Sweden) \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales \| University of Helsinki. Department of Chemistry. Tipo de material: Texto Detalles de publicación: 2006. Acceso en línea: Acceso texto completo Disponibilidad: No disponible para préstamo a domicilio:Artículos: Préstamo en sala (1). Agregar al carrito (remover)
		Theoretical study on the series of [Au3Cl3M2] complexes, with M = Li, Na, K, Rb, Cs. Título de la Revista: Journal of Molecular Modeling por Muñiz, J \| Sansores, L.E \| Pyykko, P \| Martinez, A \| Salcedo, R \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales \| University of Helsinki. Department of Chemistry. Tipo de material: Texto Detalles de publicación: 2009. Acceso en línea: Acceso texto completo Disponibilidad: No disponible para préstamo a domicilio:Artículos: Préstamo en sala (1). Agregar al carrito (remover)

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