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ZrAlO ternary oxide as a candidate for high-k dielectrics.

Título de la Revista: Materials Science In Semiconductor ProcessingPor: Bizarro, M | Alonso, J. C | Ortiz, A | Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en MaterialesTipo de material: TextoTextoDetalles de publicación: 2006. Descripción: Vol. 9, no. 6, pp. 1090-1096Tema(s): High-k dielectrics | Pyrosol process | OxidesRecursos en línea: Acceso texto completo
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