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		Analysis of structural changes in plasma-deposited fluorinated silicon dioxide films caused by fluorine incorporation using ring-statistics based mechanism. Título de la Revista: Journal of Applied Physics por Pankov, V \| Alonso, J.C \| Ortiz, A \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales. Tipo de material: Texto Idioma: SPA Detalles de publicación: 1999. Acceso en línea: Acceso texto completo Disponibilidad: No disponible para préstamo a domicilio:Artículos: Préstamo en sala (1). Agregar al carrito (remover)
		The effect of hydrogen addition on the fluorine doping level of SiOF films prepared by remote plasma-enhanced chemical vapor deposition using SiF/sub 4/-based plasmas. Título de la Revista: Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular Papers Short Notes and Review Papers por Pankov, V \| Alonso, J.C \| Ortiz, A \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales. Tipo de material: Texto Idioma: SPA Detalles de publicación: 1998. Acceso en línea: Acceso texto completo Disponibilidad: No disponible para préstamo a domicilio:Artículos: Préstamo en sala (1). Agregar al carrito (remover)
		Effect of hydrogen dilution on the remote plasma enhanced chemical vapor deposition of chlorinated SiO/sub 2/ films. Título de la Revista: Journal of Vacuum Science and Technology A-Vacuum, Surface, and Films por Alonso, J. C \| Vazquez, R \| Ortiz, A \| Pankov, V \| Andrade, E \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Fisica. Tipo de material: Texto Idioma: SPA Detalles de publicación: 1998. Acceso en línea: Acceso texto completo Disponibilidad: No disponible para préstamo a domicilio:Artículos: Préstamo en sala (1). Agregar al carrito (remover)
		Effect of hydrogen dilution on the structure of SiOF films prepared by remote plasma enhanced chemical vapor deposition from SiF/sub 4/-based plasmas. Título de la Revista: Journal of Vacuum Science and Technology A-Vacuum, Surface, and Films por Alonso, J. C \| Pichardo, E \| Pankov, V \| Ortiz, A \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales. Tipo de material: Texto Idioma: SPA Detalles de publicación: 2000. Acceso en línea: Acceso texto completo Disponibilidad: No disponible para préstamo a domicilio:Artículos: Préstamo en sala (1). Agregar al carrito (remover)
		Fluorinated-chlorinated SiO/sub 2/ films prepared at low temperature by remote plasma-enhanced chemical-vapor deposition using mixtures of SiF/sub 4/ and SiCl/sub 4/. Título de la Revista: Journal of Vacuum Science and Technology A-Vacuum, Surface, and Films por Alonso, J. C \| Pichardo, E \| Rodriguez-Fernandez, L \| Cheang-Wong, J. C \| Ortiz, A \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Fisica. Tipo de material: Texto Idioma: SPA Detalles de publicación: 2001. Acceso en línea: Acceso texto completo Disponibilidad: No disponible para préstamo a domicilio:Artículos: Préstamo en sala (1). Agregar al carrito (remover)
		Growth and characterisation of polymeric amorphous carbon and carbon nitride films from propane. Título de la Revista: Diamond and Related Materials por Fanchini, G \| Mandracci, P \| Tagliaferro, A \| Rodil, S.E \| Vomiero, A \| Della Mea, G \| Politecnico di Torino. Dipartimento di Fisica \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales \| Universita di Padova. Dipartimento di Fisica \| Universita di Trento. Dipartimento di Ingegneria. Tipo de material: Texto Idioma: SPA Detalles de publicación: 2005. Acceso en línea: Acceso texto completo Disponibilidad: No disponible para préstamo a domicilio:Artículos: Préstamo en sala (1). Agregar al carrito (remover)
		Hydrogen and disorder in diamond-like carbon. Título de la Revista: Diamond and Related Materials por Kleinsorge, B \| Rodil, S.E \| Adamopoulos, G \| Robertson, J \| Grambole, D \| Fukarek, W \| University of Cambridge. Department of Engineering \| Institut fur Ionenstrahlphysik und Materialforschung. Forschungszentrum Rossendorf \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales. Tipo de material: Texto Idioma: SPA Detalles de publicación: 2001. Acceso en línea: Acceso texto completo Disponibilidad: No disponible para préstamo a domicilio:Artículos: Préstamo en sala (1). Agregar al carrito (remover)
		Preparation of CNSi/sub x/ using a RF hollow cathode. Título de la Revista: Diamond and Related Materials por Muhl, S \| Mahmood, A \| Universidad Nacional Autonoma de Mexico. Instituto de Investigaciones en Materiales. Tipo de material: Texto Idioma: SPA Detalles de publicación: 2000. Acceso en línea: Acceso texto completo Disponibilidad: No disponible para préstamo a domicilio:Artículos: Préstamo en sala (1). Agregar al carrito (remover)

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