Chemical and structural properties of polymorphous silicon thin films grown from dichlorosilane
Título de la Revista: Applied Surface ScienceTipo de material: TextoDetalles de publicación: 2013 Descripción: Vol. 285, pp. 431-439Tema(s): Polymorphous silicon | Dichlorosilane | PECVD | Nanocrystals | AFM | RamanXPS | FTIRRecursos en línea: Acceso texto completoTipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Clasificación | Copia número | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras | Reserva de ítems |
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