000 01158nas a2200373zi 4500
001 000122983
005 20230621112211.0
008 960830d19922008xxuqr_p_d_________a_eng_d
022 _a1074-407X
030 _aMCWRE7
035 _aSER01000122983
040 _aUNAMX
_bspa
_erda
_cUNAMX
041 _aeng
050 1 4 _aTK7871
082 1 4 _a621.3815
210 1 _aMicrolithogr. world
222 0 0 _aMicrolithography world
245 0 0 _aMicrolithography world
264 1 _aPort Washington, N.Y. :
_bPenn Well,
_c1992-2008
310 _aTrimestral
321 _aBimestral
336 _atexto
_2rdacontent
337 _asin medio
_2rdamedia
338 _avolumen
_2rdacarrier
500 _aTítulo de la cubierta
500 _aInicia en 1992 con el vol. 1, no. 1, cierra en 2008 con el vol. 17, no. 4
510 0 _aINSPEC
581 _aPublicado: Tulsa, Ok., oct., nov., dic. 1993-
650 4 _aSemiconductores
_xDiseño y construcción.
650 4 _aMicrolitografía.
650 4 _aMáscaras (Electrónica)
710 2 1 _aInternational Society for Optical Engineering
710 2 1 _aSociety of Photo-optical Instrumentation Engineers
999 _c18033
_d18033