| 000 | 00649nam-a2200181-a-4500 | ||
|---|---|---|---|
| 008 | 231130s2003 mx a|||||||||||||||||||spa d | ||
| 035 | _aTIM01000500255 | ||
| 041 | _aSPA | ||
| 090 | _aDiaz.Bu/2003 | ||
| 100 | _aDiaz Bucio, Xochitl Monica | ||
| 245 | _aEstudio sobre los mecanismos de reduccion de la constante dielectrica de peliculas delgadas de dioxido de silicio impurificadas con fluor | ||
| 260 |
_aMexico : _bEl autor, _c2003 |
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| 300 |
_a71 p. : _bil. |
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| 502 | _aTesis Licenciatura (Fisico)-UNAM, Facultad de Ciencias | ||
| 700 |
_aAlonso Huitron, Juan Carlos, _easesor |
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| 710 |
_aUniversidad Nacional Autonoma de Mexico. _bFacultad de Ciencias |
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| 999 |
_c18693 _d18693 |
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